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手機的真空鍍膜技術應用分析
發(fā)布時間:2014-07-09 瀏覽:  次

  伴隨著人們?nèi)粘I钏降牟粩嗵岣?,手機的使用已經(jīng)十分普遍,雖然手機在帶給人們方便,但其輻射對人體的危害也越來越嚴重。

  研究表明,手機產(chǎn)生的電磁波強度是空間電磁波的4到6倍。

  少數(shù)劣質手機產(chǎn)生的電磁波甚至達到空間電磁波百倍以上。

  手機輻射可引發(fā)神經(jīng)衰弱、內(nèi)分泌失調,還能影響少年兒童的生長發(fā)育,嚴重的甚至會引發(fā)腦瘤。

  怎么樣降低手機輻射對人體健康的影響,已成為擺在我們面前的一個急需解決的問題。

  應用手機真空鍍膜技術,就可以比較好地解決這個問題。

  真空鍍膜是在原子水平上進行材料生成的技術,鍍層的晶料度在10納米左右,屬于納米材料的范疇。

  通過對手機殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護膜層,可以極大地防止因電磁波輻射而對手機使用者造成的危害。

  手機真空鍍膜技術的研究與應用,不僅推動了手機制造業(yè)的發(fā)展,也推動了相關產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

  有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應用這項技術進行電磁屏蔽,以對其使用性能進行優(yōu)化,保護人類健康,保護環(huán)境。

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