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磁控濺射鍍膜時(shí)需滿足什么樣的條件?
發(fā)布時(shí)間:2014-03-24 瀏覽:  次

磁控濺射鍍膜時(shí)需滿足什么樣的條件?

  鍍膜的方法有很多種,真空鍍膜,真空蒸發(fā)鍍膜,還有離子鍍膜等等,但是最近一段時(shí)間比較熱門的磁控濺射鍍膜,好像很厲害的樣子,今天我們一起來聽聽真空鍍膜設(shè)備廠家東莞愛加真空來給我們介紹一下磁控濺射的原理吧!


  磁控濺射在放電的過程中,會(huì)離轟擊陰極產(chǎn)生二次放電,電子一班在陰極的位置電場下產(chǎn)生作用,然后與正在加速的氣體發(fā)生碰撞,這樣可以讓氣體分子維持放電狀態(tài),因?yàn)殡娮釉陔妶黾铀俚能壽E一般都是直線,所以發(fā)生碰撞的幾率是很低的,如果我們?cè)谂c電場垂直的方向加磁場,電子會(huì)成為與運(yùn)動(dòng)軌跡相同的擺線,在實(shí)際的磁控條件中,從陰極發(fā)出來的電子是有能量的,并且在很陰暗的地方電場是不均勻的,從陰極發(fā)射出來的電子運(yùn)動(dòng)軌跡都會(huì)形成不規(guī)則的擺線,我們稱為擺線運(yùn)動(dòng),濺控濺射鍍膜機(jī)的靶子就是這個(gè)鍍膜的源頭,在運(yùn)行過程中他必須滿足兩個(gè)條件,第一個(gè)是必須要有正交的電磁場,第二個(gè)是電磁場的防線必須要是平行的,并且在閉合的地方有水平磁場,從陰極發(fā)射出來的電子,會(huì)在陰暗地區(qū)活得能量,有了水平磁場的存在他就能直接飛向陽極,在接近軌跡的時(shí)候,電子軌跡的運(yùn)動(dòng)就會(huì)假唱,而且只有電子可以通過能量交換掏出磁場,在能量沒有完全交換之前,飛行一百米左右完成鍍膜,所以真空鍍膜機(jī)被稱為最快的濺射速度!    

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